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半導体レーザとその製造方法

文献类型:专利

作者奥田 哲朗
发表日期1996-10-22
专利号JP1996279651A
著作权人NEC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザとその製造方法
英文摘要【目的】 アナログ変調歪特性を改善し、同時に副モード抑圧比を改善し、雑音による信号の劣化を抑制した半導体レーザとその製造方法を提供する。 【構成】 半導体レーザの共振器を構成する素子の前後面のうちの前面に低反射率膜5、後面に高反射率膜6をそれぞれ有し、かつ共振器全長にわたって回折格子7を形成するとともに、この回折格子7はその結合係数を後面側の領域7aよりも前面側の領域7bで大きくなるように構成する。例えば、回折格子の高さを、後面側よりも前面側で高くする。回折格子7を共振器全長にわたって形成しているために、複合共振器による副モードが抑制される。また、前面側の回折格子7aの結合係数を後面側よりも大きくすることで、共振器方向の電界強度分布を平坦化でき、アナログ変調歪が低減できる。
公开日期1996-10-22
申请日期1995-04-08
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/71261]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NEC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
奥田 哲朗. 半導体レーザとその製造方法. JP1996279651A. 1996-10-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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