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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者佐川 みすず; 平本 清久; 豊中 隆司; 篠田 和典; 魚見 和久; 青木 雅博; 佐藤 宏
发表日期2003-09-05
专利号JP3468612B2
著作权人株式会社日立製作所
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【目的】 本発明は、光通信システム、光情報システムにおける高出力半導体レーザ及び低コスト半導体レーザなどストライプ幅を共振器方向に変化させる構造を有する半導体レーザにおいて、モード変換に伴うモード損失が生じず且つ横モードが安定な半導体レーザを提供することにある。 【構成】 共振器方向に沿って幅が指数関数に従って変化しているストライプ、または共振器方向に沿って幅が指数関数に従って変化し且つ端面近傍では幅が一定であるストライプにより構成されている。 【効果】 本発明により、ストライプ幅を共振器方向に変化させる構造を有する半導体レーザにおいて、モード変換に伴うモード損失が生じず且つ横モードが安定な半導体レーザを実現した。このため、高出力半導体レーザにおいて高信頼化を実現した。さらに、パッシブアライメントが可能な半導体レーザを容易な方法で実現し歩留まり向上、低コスト化を実現した。
公开日期2003-11-17
申请日期1995-06-13
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/71271]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社日立製作所
推荐引用方式
GB/T 7714
佐川 みすず,平本 清久,豊中 隆司,等. 半導体レーザ装置. JP3468612B2. 2003-09-05.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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