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半导体发光元件及其制造方法

文献类型:专利

作者谢明勋; 蔡嘉芬
发表日期2008-05-07
专利号CN101174668A
著作权人晶元光电股份有限公司
国家中国
文献子类发明申请
其他题名半导体发光元件及其制造方法
英文摘要本发明揭露一种半导体发光元件及其制造方法,此半导体发光元件具有一不透光基板、形成于此不透光基板上的一结合结构、形成于此结合结构上的一半导体发光叠层、以及形成于此半导体发光叠层上的一荧光材料结构,且此半导体发光叠层是分离自一原始成长基板。本发明的半导体发光元件的制造方法包括有分离一半导体发光叠层自一原始成长基板、结合半导体发光叠层至一不透光基板上、及形成一荧光材料结构于半导体发光叠层上方。
公开日期2008-05-07
申请日期2004-09-10
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/71670]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位晶元光电股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
谢明勋,蔡嘉芬. 半导体发光元件及其制造方法. CN101174668A. 2008-05-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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