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光源装置、プロジェクタ、モニタ装置

文献类型:专利

作者上島 俊司
发表日期2010-02-25
专利号JP2010045273A
著作权人セイコーエプソン株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光源装置、プロジェクタ、モニタ装置
英文摘要【課題】高出力化や高効率化が可能な光源装置を提供する。 【解決手段】本発明の光源装置100は、複数の発光部160a、160bを有する光源基板110と、複数の集光部121a、121bを有する集光基板120と、を備える。複数の集光部121a、121bの各々が、複数の発光部160a、160bから射出された光の各々を集光するように配置されている。光源基板110と集光基板120とが近接して接合されている。光源基板110と集光基板120とを高精度に位置合わせすることにより、複数の発光部160a、160bの各々と複数の集光部121a、121bの各々とを一括して高精度に位置合わせされる。複数の発光部160a、160bから射出された光の強度分布が複数の集光部121a、121bにより調整されるので、光の利用効率が高くなる。 【選択図】図1
公开日期2010-02-25
申请日期2008-08-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/71814]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位セイコーエプソン株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
上島 俊司. 光源装置、プロジェクタ、モニタ装置. JP2010045273A. 2010-02-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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