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半導体レーザ装置の製造方法および半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者西口 晴美; 島 顕洋
发表日期2010-05-13
专利号JP2010109397A
著作权人MITSUBISHI ELECTRIC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置の製造方法および半導体レーザ装置
英文摘要【課題】発光点相互の間隔を狭くしてもチップ分離の際にチップが欠けたりクラックが発生したりして歩留まりを低下させることがなく、放熱が悪くなることもなく、複数のレーザビームの相対角度ずれが生ずることを抑えることができる半導体レーザ装置の製造方法および半導体レーザ装置を提供する。 【解決手段】半導体レーザ装置の製造方法において、へき開端面に垂直な方向の長さが異なる複数個の半導体レーザバーを、上下に重ね、上下に重ねられた複数個の半導体レーザバーの各へき開端面を、所定の位置にずらす。ここで、上下に重ねられる半導体レーザバーのうち、下側の半導体レーザバーのへき開端面に垂直な方向の長さは、上側の半導体レーザバーのへき開端面に垂直な方向の長さより長いものとする。 【選択図】図9
公开日期2010-05-13
申请日期2010-02-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/71837]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI ELECTRIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
西口 晴美,島 顕洋. 半導体レーザ装置の製造方法および半導体レーザ装置. JP2010109397A. 2010-05-13.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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