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半導体発光装置およびその製造方法

文献类型:专利

作者丸谷 幸利
发表日期2019-03-01
专利号JP6485518B2
著作权人日亜化学工業株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体発光装置およびその製造方法
英文摘要【課題】放熱性および配列性を向上できる半導体発光装置を提供する。 【解決手段】外部リード50は、キャップ40の貫通孔41bに取り付けられ、外部リード50の一端は、キャップ40の内側で内部リード60と電気的に接続され、外部リード50の他端は、キャップ40の外側に配置される。外部リード50は、取付面30aの法線方向からみて、基体30の外形線30cよりも内側の領域Z1に位置している。 【選択図】図1
公开日期2019-03-20
申请日期2017-10-10
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/72329]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日亜化学工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
丸谷 幸利. 半導体発光装置およびその製造方法. JP6485518B2. 2019-03-01.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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