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レーザ加熱装置

文献类型:专利

作者植松 忠之; 千葉 貴史; 寺田 昌男; 坂口 功
发表日期2006-09-21
专利号JP2006247696A
著作权人株式会社アルファ·オイコス
国家日本
文献子类发明申请
其他题名レーザ加熱装置
英文摘要(修正有) 【課題】半導体基板等を高温で均一に加熱することができるレーザ加熱装置を提供する。 【解決手段】レーザダイオードバーを複数積層せしめて形成したレーザ発振器3と、上記レーザ発振器と被加熱物4との間に介挿した光学レンズ系5とより成り、この光学レンズ系は、レーザ発振器3の速軸方向では上記各レーザダイオードバーのレーザ出口に設けたコリメートレンズ6と、上記被加熱物側に向かうに従って順番に配置せしめた凸レンズ7、フライアイレンズ8とより成り、上記コリメートレンズにより出た平行光を、上記凸レンズ、フライアイレンズを通過せしめた後に集光せしめてからデフォーカスして被加熱物4に照射せしめ、レーザ発振器3の遅軸方向では上記レーザ出口から出たレーザ光を出射角度のまま第1の絞りにより整形し被加熱物に照射せしめ、上記レーザ発振器の速軸方向での上記光学レンズ系5の集光点近傍にレーザ光を通過する第2の絞り9を有する。 【選択図】図2
公开日期2006-09-21
申请日期2005-03-10
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/73112]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社アルファ·オイコス
推荐引用方式
GB/T 7714
植松 忠之,千葉 貴史,寺田 昌男,等. レーザ加熱装置. JP2006247696A. 2006-09-21.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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