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半導体発光素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者山田 篤志; 大野 啓; 左文字 克哉
发表日期2008-11-13
专利号JP2008277492A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光素子及びその製造方法
英文摘要【課題】工程中の電極の剥がれを防止できる構造を備え、初期特性及び信頼性に優れた半導体発光素子を提供する。 【課題を解決するための手段】半導体発光素子は、基板上に、下から順に第1導電型のクラッド層、活性層、及び第2導電型のクラッド層が形成され、第2導電型のクラッド層を少なくとも含む層にリッジ形状のストライプ構造を備える。ストライプ構造の側面及び底面に形成された誘電体膜と、ストライプ構造の上面に形成された導電膜よりなるオーミック電極とを備えている。 【選択図】図3
公开日期2008-11-13
申请日期2007-04-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/73813]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
山田 篤志,大野 啓,左文字 克哉. 半導体発光素子及びその製造方法. JP2008277492A. 2008-11-13.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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