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半導体レーザ素子の製造方法

文献类型:专利

作者栗林 均
发表日期1994-04-22
专利号JP1994112592A
著作权人FUJI ELECTRIC CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子の製造方法
英文摘要【目的】メサ部形成後の第二クラッド層の寸法精度を高める。 【構成】第二クラッド層として下部第二クラッド層,GaAsとAlX Ga1-x Asからなる多重量子井戸構造を有するエッチングストップ層,上部第二クラッド層の順に積層した後、沃素系のエッチング液を用い、GaAsとAlX Ga1-x Asのエッチング速度の差を利用して、エッチングを確実に下部第二クラッド層で停止させることにより、第二クラッド層の厚さを高精度に制御する。また、多重量子井戸構造のエッチングストップ層は、多重量子障壁層の役割も兼備するので、活性層とクラッド層の障壁を高くし、電流の閉じ込めを強めることができる。
公开日期1994-04-22
申请日期1992-09-29
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/73913]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJI ELECTRIC CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
栗林 均. 半導体レーザ素子の製造方法. JP1994112592A. 1994-04-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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