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半導体発光素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者岡 崎 治 彦
发表日期2001-02-23
专利号JP2001053339A
著作权人TOSHIBA CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光素子およびその製造方法
英文摘要【課題】 緑色から赤色領域に至る長波長の発光を確実に得ることができる半導体発光素子と、電流ブロック構造を確実且つ容易に形成することができる半導体発光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 基板に対して大なる格子定数を有する半導体層と小なる格子定数を有する半導体層とを積層させた発光層を用いることによって基板と発光層との間の格子定数の「ずれ」を緩和させることができる。この時に、各層の膜厚を電子のド·ブロイ波の波長程度、あるいは「臨界膜厚」以下とすれば、結晶欠陥を発生させることなく各層に圧縮応力を印加してその格子定数を基板のそれに近づけることができる。また、p側電極の形成領域の一部にn側電極材料を含む領域を形成してアニール処理を施すと、これらの電極金属が反応して接触抵抗の高い領域が形成される。
公开日期2001-02-23
申请日期1999-08-11
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/74457]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOSHIBA CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
岡 崎 治 彦. 半導体発光素子およびその製造方法. JP2001053339A. 2001-02-23.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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