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半導体レーザおよびその製造方法

文献类型:专利

作者大塚 信之; 松井 康; 堀 義和
发表日期1993-04-16
专利号JP1993095161A
著作权人松下電器産業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザおよびその製造方法
英文摘要【目的】 分布帰還型半導体レーザに関するもので、特にグレーティングにλ/4シフト構造を作製することなしに安定した単一モード発振が得られ、さらにサイドモード抑圧比を最大とすることができるグーティング形状を提供するものであり、片端面反射コーティングによる高光出力化を実現した半導体レーザの構造および製造方法を提供するものである。 【構成】 n-InP基板1上に、異なる周期を持つ分布帰還型回折格子2と4を形成したInGaAsP(λ=3μm)導波路層5、InGaAsP(λ=55μm)活性層6、p-n-pInP埋め込み層7、p-InGaAsP(λ=3μm)キャップ層8、蒸着によりAu/Znp側電極9、Au-Sn n側電極10よりなる。最後に多層反射膜11、無反射膜12を堆積しレーザ構造を得る。
公开日期1993-04-16
申请日期1991-10-02
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/74683]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電器産業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
大塚 信之,松井 康,堀 義和. 半導体レーザおよびその製造方法. JP1993095161A. 1993-04-16.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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