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半導体レ—ザ装置

文献类型:专利

作者粂 雅博; 伴 雄三郎; 服藤 憲司; 木戸口 勲; 上山 智; 辻村 歩; 宮永 良子; 石橋 明彦; 長谷川 義晃
发表日期2000-03-14
专利号JP2000077795A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レ—ザ装置
英文摘要【課題】 紫外領域においても低しきい値で且つ温度特性が優れる半導体レーザ装置を実現できるようにする。 【解決手段】 サファイアからなる基板11上に、n型GaNからなるn型コンタクト層13と、n型Al0.35Ga0.65Nからなるn型クラッド層14とが形成されている。n型クラッド層14上には、Al0.2 Ga0.8 N/Al0.25Ga0.75Nからなる多重量子井戸活性層15と、p型Al0.5 Ga0.5 N0.975 P0.025 からなるp型リークバリア層16と、p型Al0.4 Ga0.6 N0.98P0.02からなるp型クラッド層17とが順次形成されている。p型リークバリア層16のエネルギーギャップはn型クラッド層14よりも大きく、且つ、p型リークバリア層16及びp型クラッド層17は、エネルギーギャップを大きく維持しながらアクセプタ準位を浅くできるリンが添加されていることを特徴とする。
公开日期2000-03-14
申请日期1999-06-17
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/74864]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
粂 雅博,伴 雄三郎,服藤 憲司,等. 半導体レ—ザ装置. JP2000077795A. 2000-03-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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