面発光型半導体レーザおよびその製造方法
文献类型:专利
作者 | 近藤 崇; 山本 将央; 吉川 昌宏 |
发表日期 | 2009-10-15 |
专利号 | JP2009238815A |
著作权人 | 富士ゼロックス株式会社 |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
英文摘要 | (修正有) 【課題】素子抵抗を低減させ、光出力を向上させることができる面発光型半導体レーザを提供する。 【解決手段】VCSEL10は、基板12と、n型の下部DBR14と、活性領域16と、p型の上部DBR18とを含む。下部DBR14はさらに、光閉じ込めとして機能する酸化層40と、酸化層40と活性領域16との間に高い不純物濃度の電流経路層60とを有する。上部DBR18は、電流狭窄として機能する酸化層50を有している。下部電極22から注入されたキャリアは、酸化領域42によって囲まれた非酸化領域46による電流経路K1に加えて、酸化領域42を回り込むような電流経路K2が形成されている。 【選択図】図1 |
公开日期 | 2009-10-15 |
申请日期 | 2008-03-26 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75136] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 富士ゼロックス株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 近藤 崇,山本 将央,吉川 昌宏. 面発光型半導体レーザおよびその製造方法. JP2009238815A. 2009-10-15. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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