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面発光型半導体レーザおよびその製造方法

文献类型:专利

作者近藤 崇; 山本 将央; 吉川 昌宏
发表日期2009-10-15
专利号JP2009238815A
著作权人富士ゼロックス株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名面発光型半導体レーザおよびその製造方法
英文摘要(修正有) 【課題】素子抵抗を低減させ、光出力を向上させることができる面発光型半導体レーザを提供する。 【解決手段】VCSEL10は、基板12と、n型の下部DBR14と、活性領域16と、p型の上部DBR18とを含む。下部DBR14はさらに、光閉じ込めとして機能する酸化層40と、酸化層40と活性領域16との間に高い不純物濃度の電流経路層60とを有する。上部DBR18は、電流狭窄として機能する酸化層50を有している。下部電極22から注入されたキャリアは、酸化領域42によって囲まれた非酸化領域46による電流経路K1に加えて、酸化領域42を回り込むような電流経路K2が形成されている。 【選択図】図1
公开日期2009-10-15
申请日期2008-03-26
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75136]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位富士ゼロックス株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
近藤 崇,山本 将央,吉川 昌宏. 面発光型半導体レーザおよびその製造方法. JP2009238815A. 2009-10-15.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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