用于匀化半导体激光器阵列光束质量的光学元件和系统
文献类型：专利
| 作者 | 王智勇; 曹银花; 刘友强; 许并社; 史元魁; 陈玉士; 王有顺 |
| 发表日期 | 2012-01-11 |
| 专利号 | CN102313915A |
| 著作权人 | 山西飞虹激光科技有限公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 用于匀化半导体激光器阵列光束质量的光学元件和系统 |
| 英文摘要 | 本发明提供一种用于匀化半导体激光器阵列光束质量的一体化成型的光学元件以及利用该光学元件构成的用于一维、二维密排和二维非密排半导体激光器阵列光束匀化的系统。该光学元件包括一体化层叠的多个厚度相等的透明光学材料层，每个层均为扁平的直平行六面体，其一对平行的侧面分别为半导体激光器阵列光束的入射端面和出射端面，其另一对平行的侧面平行于所述光束的入射方向，其平行四边形底面与相邻层的底面部分重合，其中，沿层叠方向顺序排列的各个层中的光束入射端面相对于平行于所述光束入射方向的侧面所成的角度递增或递减，各个层中的入射端面和出射端面之间的垂直距离或沿所述光束入射方向的距离相同。 |
| 公开日期 | 2012-01-11 |
| 申请日期 | 2011-09-06 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75318]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 山西飞虹激光科技有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王智勇,曹银花,刘友强,等. 用于匀化半导体激光器阵列光束质量的光学元件和系统. CN102313915A. 2012-01-11. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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