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3族窒化物半導体レーザ素子

文献类型:专利

作者永井 誠二; 山崎 史郎; 小池 正好
发表日期1998-06-02
专利号JP1998150219A
著作权人TOYODA GOSEI CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名3族窒化物半導体レーザ素子
英文摘要【課題】p型ガイド層における光の吸収を防止してレーザ出力を向上させること。 【解決手段】InGaN/GaN にて形成される活性層5を、活性層5よりも禁制帯幅の広いp型クラッド層71とストッパ層42で挟み、ストッパ層42の外側をガイド層41、その外側をクラッド層4で形成することにより、キャリアを活性層5に閉じ込め、光を活性層5とストッパ層42とガイド層41に閉じ込めた。この結果、発光波長が380〜430nmのときに光を吸収する層が光の閉じ込めを行う層に存在しないので、光の吸収による損失が無くなりレーザ出力が向上した。
公开日期1998-06-02
申请日期1996-11-15
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75802]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOYODA GOSEI CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
永井 誠二,山崎 史郎,小池 正好. 3族窒化物半導体レーザ素子. JP1998150219A. 1998-06-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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