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半導体レーザおよびその製造方法

文献类型:专利

作者大仲 清司; 伴 雄三郎
发表日期1999-07-09
专利号JP2949927B2
著作权人松下電器産業株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザおよびその製造方法
英文摘要【目的】 AlGaInPなどの材料で構成され横モードが制御された半導体レーザの非点隔差を小さくし、発振しきい値を低くする。 【構成】 n型GaAs基板上101にn型AlGaInPクラッド層102、ストライプ状に圧縮歪を有するGaInP活性層104およびp型AlGaInPクラッド層106が形成されている。
公开日期1999-09-20
申请日期1991-07-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/76315]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電器産業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
大仲 清司,伴 雄三郎. 半導体レーザおよびその製造方法. JP2949927B2. 1999-07-09.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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