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半導体レーザ

文献类型:专利

作者菅生 繁男
发表日期1996-05-31
专利号JP1996139404A
著作权人日本電気株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ
英文摘要【目的】 活性層のエピタキシャル成長時にバリア層が平坦性を失うことなく、良好な歪み補償構造を実現する。 【構成】 バリア層3と、このバリア層3に挟まれた量子井戸層4とは半導体レーザの活性層を形成している。量子井戸層4は圧縮歪みを持つ主量子井戸層5と、この主量子井戸層5を挟み込みかつ主量子井戸層5の圧縮歪みを補償するための引張り歪みを持つ副量子井戸層6とが積層されて形成されている。
公开日期1996-05-31
申请日期1994-11-09
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/76381]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
菅生 繁男. 半導体レーザ. JP1996139404A. 1996-05-31.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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