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分布帰還型半導体レーザ素子

文献类型:专利

作者中村 幸治
发表日期2008-09-25
专利号JP2008227367A
著作权人OKI ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名分布帰還型半導体レーザ素子
英文摘要【課題】レーザ素子外部からの反射戻り光の影響を受けにくくするとともに、光アイソレータを使用することなく低価格な光モジュールを実現し、光モジュールへ搭載した場合の伝送特性を改善するDFBレーザ素子を提供する。 【解決手段】GC型のDFBレーザ素子10であって、n-InP基板100と、この半導体基板の表面に形成した回折格子102と、回折格子上に形成したInGaAsP導波路層104と、導波路層上に形成したMQW活性層106とを具えており、導波路層のバンドギャップ波長が、活性層の発振波長の±0.1μm以内であり、InGaAsP導波路層の厚みが5nm〜30nmの範囲内であり、及び、MQW活性層の幅が0.7μm〜0μmの範囲内である。 【選択図】図1
公开日期2008-09-25
申请日期2007-03-15
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/76478]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位OKI ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
中村 幸治. 分布帰還型半導体レーザ素子. JP2008227367A. 2008-09-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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