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半導体素子

文献类型:专利

作者百瀬 正之; 中塚 慎一; 河田 雅彦; 後藤 順; 大家 彰
发表日期1998-09-11
专利号JP1998242575A
著作权人HITACHI LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体素子
英文摘要【課題】拡散により電流狭窄構造を作製する際、拡散領域の制御が難しい。そのため、幅が良く制御されたストライプ構造の作製が困難である。 【解決手段】II族元素を拡散させる層と拡散を抑制する層を導入することで、II族元素が拡散する領域を制御して、電流狭窄構造を作製する。また、量子井戸構造や超格子構成で、平坦なヘテロ界面を得る。
公开日期1998-09-11
申请日期1997-02-25
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/76491]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
百瀬 正之,中塚 慎一,河田 雅彦,等. 半導体素子. JP1998242575A. 1998-09-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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