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光半導体集積回路

文献类型:专利

作者荻田 省一
发表日期1995-06-02
专利号JP1995142700A
著作权人FUJITSU LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光半導体集積回路
英文摘要【目的】 光半導体集積回路に関し、基板上に於いて、積層する半導体層の幅などを変えることなく、且つ、平坦な状態でバンド·ギャップ波長を部分的に変えることができるようにする。 【構成】 基板31上に順に積層形成され格子定数が基板31と相違するコア層33及び格子定数が基板31と同じである保護層34と、保護層34を選択的に除去して表出させたコア層33の部分に形成された回折格子状の凹凸部分33Aと、回折格子状の凹凸部分33Aを含めた全面に形成されてバンド·ギャップ波長が部分的に変化する導波路層(或いは活性層)35が含まれた量子井戸構造とを備える。
公开日期1995-06-02
申请日期1993-11-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/76651]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJITSU LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
荻田 省一. 光半導体集積回路. JP1995142700A. 1995-06-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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