半導体レーザおよびその製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 村上 隆志 |
| 发表日期 | 1993-01-22 |
| 专利号 | JP1993013877A |
| 著作权人 | 三菱電機株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 半導体レーザおよびその製造方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 InP系埋込型半導体レーザの漏れ電流を低減し、高出力半導体レーザを得る。 【構成】 InP下クラッド層中にAlGaInAs液相成長ストッパ層を挿入する。 【効果】 電流ブロック層の精密な位置制御が可能となり、リークパスを狭くして漏れ電流を低減できる。 |
| 公开日期 | 1993-01-22 |
| 申请日期 | 1991-07-05 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/77125]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 三菱電機株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 村上 隆志. 半導体レーザおよびその製造方法. JP1993013877A. 1993-01-22. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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