Liquid phase epitaxial growth method
文献类型:专利
作者 | ITOU KUNIO; INOUE MORIO |
发表日期 | 1977-06-08 |
专利号 | JP1977069265A |
著作权人 | MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | Liquid phase epitaxial growth method |
英文摘要 | PURPOSE:To prevent mixing of Al and to control oscillation wave-length precisely by putting GaAs wafer on the substrate after only solution in a solution container is pasesd over GaAs wafer. |
公开日期 | 1977-06-08 |
申请日期 | 1975-12-05 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/77619] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
推荐引用方式 GB/T 7714 | ITOU KUNIO,INOUE MORIO. Liquid phase epitaxial growth method. JP1977069265A. 1977-06-08. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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