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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者岡崎 洋二; 福永 敏明
发表日期2001-03-30
专利号JP2001085793A
著作权人FUJI PHOTO FILM CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【課題】 高出力·基本モード発振し、信頼性の高い半導体レーザ装置を得る。 【解決手段】 GaN基板11上にGa1-z1Alz1N/GaN超格子クラッド層12、Ga1-z2Alz2N光導波層13、Ga1-z2Alz2N/GaN多重量子井戸活性層14、Ga1-z3Alz3Nキャリアブロッキング層15、i-Ga1-z2Alz2N光導波層16、Ga1-z1Alz1N/GaN超格子クラッド層17、GaNコンタクト層18、100μm程度のストライプの領域が除去された絶縁膜19、p側電極20、n側電極21を形成してなる半導体レーザ24を励起光源に用い、GaN基板31上にGaN/AlN超格子分布反射膜32、GaN光閉じ込め層33、Inx2Ga1-x2N/Inx3Ga1-x3N多重量子井戸活性層34、GaN光閉じ込め層35、Alz4Ga1-z4N層36を積層し、ZrO2無反射コート膜37を形成してなる面発光型半導体素子38を励起し、共振器49により紫外〜緑色の波長帯の高出力で基本横モードのレーザ発振48を得る。
公开日期2001-03-30
申请日期1999-09-10
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/77713]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJI PHOTO FILM CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
岡崎 洋二,福永 敏明. 半導体レーザ装置. JP2001085793A. 2001-03-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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