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半導体レーザ及び半導体レーザの製造方法

文献类型:专利

作者中村 幸治
发表日期2007-01-25
专利号JP2007019390A
著作权人OKI ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ及び半導体レーザの製造方法
英文摘要【課題】 外部からの反射戻り光の影響を抑制することができ,モジュールに組み立てた場合にアイソレータを不要として低価格なシステムに対応可能な,半導体レーザ及び半導体レーザの製造方法を提供する。 【解決手段】 発光領域200がストライプ状に限定された半導体レーザ100において;光が出射される前端面300と,前端面300の素子側面方向の端部に,少なくとも発光領域200の上部のクラッド層230と下部のクラッド層210とに渡って設けられ,前端面300と光出射の反対方向に角度を成す傾斜面400と,を備えることを特徴とし,反射戻り光の一部が傾斜面400で反射されカットできるので,半導体レーザ100の特性変動を低減することができる。 【選択図】図1
公开日期2007-01-25
申请日期2005-07-11
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78156]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位OKI ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
中村 幸治. 半導体レーザ及び半導体レーザの製造方法. JP2007019390A. 2007-01-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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