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半導体レーザ装置及びその製造方法

文献类型:专利

作者木之下 秀明
发表日期1994-09-30
专利号JP1994275906A
著作权人TOSHIBA CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置及びその製造方法
英文摘要【目的】 素子寸法のばらつきを防ぎ、素子特性の制御性の向上を可能とする素子構造を有するInGaAlP系の横モード制御型半導体レーザ装置を提供することを目的とする。 【構成】 半導体基板と、この半導体基板上に形成されたInGaAlP系混晶からなる下部クラッド層、活性層及び第1の上部クラッド層を積層してなるダブルヘテロ構造部と、このダブルヘテロ構造部上にInGaAlP系混晶からなる第2の上部クラッド層及びコンタクト層をストライプ状に積層してなるリッジ部と、前記ダブルヘテロ構造部及びリッジ部上に形成されたオーミックコンタクト層とを具備し、前記リッジ部は、前記第1の上部クラッド層の所定部分上に選択成長により形成されてなることを特徴とする。
公开日期1994-09-30
申请日期1993-03-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78185]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOSHIBA CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
木之下 秀明. 半導体レーザ装置及びその製造方法. JP1994275906A. 1994-09-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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