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半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者天野 利昌; 海上 隆; 中野 純一
发表日期1993-05-18
专利号JP1993121826A
著作权人NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【目的】活性層を含むメサストライプを埋め込む埋め込み型半導体レーザ素子において発振光干渉領域を排し、無効電流通路を最小にして単一モード化に貢献しつつ低閾値、高効率、高出力化を実現する。 【構成】 GaAsInPを活性層とするp型メサストライプ埋め込み型レーザーのpn型InP埋め込み電流ブロック構造を有する半導体レーザー素子のn型InP電流ブロック層を液相成長させる際にTe元素を添加してTeドープn型InP層とする。Teの添加量は0.010〜0.060モル%が好ましい。さらにGaAsまたはGa元素を00モル%以下添加するのが好ましい。
公开日期1993-05-18
申请日期1991-10-25
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78414]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
天野 利昌,海上 隆,中野 純一. 半導体レーザ素子およびその製造方法. JP1993121826A. 1993-05-18.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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