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半導体レーザ及びその製造方法

文献类型:专利

作者古谷 章; 菅野 真実; 近藤 真人; 穴山 親志; 棚橋 俊之
发表日期1994-09-16
专利号JP1994260714A
著作权人富士通株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ及びその製造方法
英文摘要(修正有) 【目的】 半導体レーザにおいて、屈曲した活性層を得るための下側のクラッド層が薄くても単一横モード制御を行うストライプ幅は広くできるようにする。 【構成】 基板(81)は主表面である(100)面と斜面である(111)B面により第1のストライプの順メサを構成する。埋め込み層(82)は基板の(100)面を除いて(111)B面を被うように形成され、埋め込み層の斜面と基板の(100)面とにより第2のストライプの順メサを構成する。第2のストライプの順メサ上に形成されるダブル·ヘテロ構造(83〜85)の台形形状は、第2のストライプの順メサにより決定される。
公开日期1994-09-16
申请日期1991-04-23
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78633]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位富士通株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
古谷 章,菅野 真実,近藤 真人,等. 半導体レーザ及びその製造方法. JP1994260714A. 1994-09-16.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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