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半導体装置およびその製造方法

文献类型:专利

作者野口 裕泰
发表日期1997-06-20
专利号JP1997162498A
著作权人SONY CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体装置およびその製造方法
英文摘要【課題】 p型II-VI族化合物半導体導電層上にこれとほぼ格子整合した良質でかつ電気的特性が良好なp型III-V族化合物半導体電極層またはp型IV族半導体電極層が設けられた半導体装置を提供する。 【解決手段】 分子線エピタキシー法によりn型GaAs基板1上にクラッド層、光導波層、活性層などを構成する複数のII-VI族化合物半導体層を順次積層した後、最上層のp型ZnSe層9上にこれとほぼ格子整合するIII-V族化合物半導体またはIV族半導体からなるp型電極層10を積層し、このp型電極層10上にp側電極11を形成するとともに、n型GaAs基板1の裏面にn側電極12を形成して半導体発光素子を製造する。p型電極層10は、基板温度200℃ないし450℃において、原子状または活性水素を照射しつつ、p型ZnSe層9上に成長させる。
公开日期1997-06-20
申请日期1995-12-08
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78852]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SONY CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
野口 裕泰. 半導体装置およびその製造方法. JP1997162498A. 1997-06-20.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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