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半導体光素子

文献类型:专利

作者市川 弘之
发表日期2006-10-26
专利号JP2006294640A
著作权人住友電気工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体光素子
英文摘要【課題】逆方向静電破壊耐圧を向上できる構造の半導体光素子を提供する。 【解決手段】活性領域19では、量子井戸構造部45aは、第1の光閉じ込め層43aと第2の光閉じ込め層47aとの間に設けられている。n型光閉じ込め層41a、第1の光閉じ込め層43a、量子井戸構造部45a、第2の光閉じ込め層47aおよびp型光閉じ込め層49aは、半導体領域13の一端面13aおよび他端面13bの少なくともいずれか一方に現れている。活性領域19が、光閉じ込め層43a、47a並びに量子井戸構造部45aに総厚270nm以上の1×1016cm-3以下のキャリア濃度の領域を有する。 【選択図】図8
公开日期2006-10-26
申请日期2005-04-05
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/79434]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位住友電気工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
市川 弘之. 半導体光素子. JP2006294640A. 2006-10-26.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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