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半導体光集積素子

文献类型:专利

作者青木 雅博; 佐野 博久; 鈴木 誠; 谷渡 剛
发表日期2001-11-02
专利号JP3245940B2
著作权人株式会社日立製作所
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体光集積素子
英文摘要【目的】 本発明は半導体光集積素子に関し、特に異種機能、異種性能を有する光素子間の高効率な光結合を極めて容易に実現する構造を提供することである。 【構成】 連続し且つ成長層厚または組成が各素子領域で異なる複数のバルク半導体層または量子井戸構造を形成し、それらの間に残留するバンドギャップエネルギーの遷移領域に電流注入することにより集積素子間の完全光結合を有する半導体光集積素子を得る。 【効果】 素子間の100%以上の実効光結合効率を実現できる。更なる効果は、量子井戸構造を集積化する複数素子に適用できるため高性能量子井戸構造光素子を同一基板上に集積化することができる。本素子を用いれば、光通信システムの長距離化を容易に実現できる。
公开日期2002-01-15
申请日期1992-04-07
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80447]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社日立製作所
推荐引用方式
GB/T 7714
青木 雅博,佐野 博久,鈴木 誠,等. 半導体光集積素子. JP3245940B2. 2001-11-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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