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半導体レーザ装置およびその製造方法

文献类型:专利

作者宮下 宗治; 三橋 豊; 早藤 紀生; マルクス ディートハード
发表日期1998-01-16
专利号JP1998012973A
著作权人MITSUBISHI ELECTRIC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置およびその製造方法
英文摘要【課題】 リッジ部の脇の部分における三重量子井戸活性層からのレーザ光の吸収を抑え、信頼性に優れたAlGaAs系半導体レーザ装置を得る。 【解決手段】 リッジ埋め込み型のAlGaAs系半導体レーザ装置の製造工程において、ヨウ素ヨウ化カリウム等のヨウ素系のエッチング液により、上クラッド層4をエッチングし- 1>方向に平行な逆メサ型のリッジ部9を形成する。次に、n型Al0.7 Ga0.3 As第1電流ブロック層6とn型GaAs第2電流ブロック層7を順次形成する。この時、リッジ部9の側面は非成長面である(111)B面により形成されているので、側面部分におけるn型Al0.7 Ga0.3 As第1電流ブロック層6のAl組成の大きな低下を抑えることができるため、リッジ部9の脇の部分における三重量子井戸活性層3からのレーザ光の吸収を抑え、レーザ特性の劣化を防ぐことが可能である。
公开日期1998-01-16
申请日期1996-06-25
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80524]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI ELECTRIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
宮下 宗治,三橋 豊,早藤 紀生,等. 半導体レーザ装置およびその製造方法. JP1998012973A. 1998-01-16.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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