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分布帰還型半導体レーザ

文献类型:专利

作者森本 卓夫
发表日期2003-07-11
专利号JP3450169B2
著作权人NECエレクトロニクス株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名分布帰還型半導体レーザ
英文摘要【課題】 均一グレーティングDFBレーザでは、大きな閾値利得差が得られず、シングルモード歩留りも悪く、一方、λ/4シフトDFBレーザでは、大きな光出力が得られないという問題を解決する。 【解決手段】 AR-ARコーティングのλ/4シフトDFBレーザにおいて、位相シフト点より前方の回折格子の共振器軸方向の長さをL2,位相シフト点より後方の回折格子の共振器軸方向の長さをL1,位相シフト点より前方の回折格子の結合係数の平均値をκ2,位相シフト点より後方の回折格子の結合係数の平均値をκ1とした場合、 L12, κ1L1>κ2L2としたことを特徴とする。
公开日期2003-09-22
申请日期1997-11-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80586]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NECエレクトロニクス株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
森本 卓夫. 分布帰還型半導体レーザ. JP3450169B2. 2003-07-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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