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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者竹見 政義
发表日期2006-04-20
专利号JP2006108715A
著作权人MITSUBISHI ELECTRIC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【課題】レーザ特性を悪化させずに素子抵抗を低減できる半導体レーザ装置を提供する。 【解決手段】p型AlGaInPクラッド層とn型AlGaInPクラッド層の間に活性層を備え、p型AlGaInPクラッド層上にp型GaInPバンド不連続緩和層を有し、リッジ導波路を構成するリッジ部分のp型AlGaInPクラッド層とp型GaInPバンド不連続緩和層との間に、複数のAlGaInPポテンシャルバリヤ抑制層を形成し、AlGaInPポテンシャルバリヤ抑制層の膜厚をp型GaInPバンド不連続緩和層より薄く設定し、かつp型GaInPバンド不連続緩和層と複数のAlGaInPポテンシャルバリヤ抑制層の合計の膜厚を、0.1μm以下とし、p型AlGaInPクラッド層及び各AlGaInPポテンシャルバリヤ抑制層のAlの含有量を、p型GaInPバンド不連続緩和層に近い層ほど少なくした。 【選択図】図1
公开日期2006-04-20
申请日期2006-01-13
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80615]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI ELECTRIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
竹見 政義. 半導体レーザ装置. JP2006108715A. 2006-04-20.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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