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超格子構造体

文献类型:专利

作者角野 雅芳
发表日期1995-07-28
专利号JP1995193326A
著作权人日本電気株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名超格子構造体
英文摘要【目的】 キャリアのオーバーフローを抑制し入射電子またはホールを有効に閉じ込める事を目的とする。 【構成】 バンドギャップの異なる2種類の半導体層を組み合わせ、これらの半導体層の厚さ及び真空準位を入射電子またはホールの反射波が位相を強め合うように構成した超格子構造体であって、バンドギャップの大きい方の半導体層に、バンドギャップの小さい方の半導体層より多くのドーパントをドーピングすることを特徴とする超格子構造体。
公开日期1995-07-28
申请日期1993-12-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80629]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
角野 雅芳. 超格子構造体. JP1995193326A. 1995-07-28.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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