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窒化物半導体レーザ素子

文献类型:专利

作者妹尾 雅之; 長濱 慎一; 中村 修二
发表日期2002-01-25
专利号JP3272588B2
著作权人日亜化学工業株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名窒化物半導体レーザ素子
英文摘要【目的】 窒化物半導体の新規な電流狭窄と、光閉じ込め技術を提案することにより、レーザ素子を実現する。 【構成】 基板10の上に少なくともn型クラッド層20と活性層30とp型クラッド層40とが順に積層された構造を有する窒化物半導体レーザ素子において、n型クラッド層20、活性層30、およびp型クラッド層40に接して、活性層よりも屈折率が小さい第一のp型窒化物半導体層50が形成され、その第一のp型窒化物半導体層に接して第二のn型窒化物半導体層51が形成され、さらにそのn型窒化物半導体層に接して正電極61、およびp型クラッド層40と電気的に接続された第三のp型窒化物半導体層52が形成されている。
公开日期2002-04-08
申请日期1995-12-06
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80957]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日亜化学工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
妹尾 雅之,長濱 慎一,中村 修二. 窒化物半導体レーザ素子. JP3272588B2. 2002-01-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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