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半導体発光装置およびその製造方法

文献类型:专利

作者玉村 好司
发表日期1999-06-22
专利号JP1999168257A
著作权人SONY CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光装置およびその製造方法
英文摘要【課題】 しきい値電流および動作電流の低減を図ることができるとともに、横モードの制御を図ることができる、窒化物系III-V族化合物半導体を用いた半導体発光装置およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 窒化物系III-V族化合物半導体を用いた半導体発光装置において、第2導電型のクラッド層8上にストライプ形状を有する第2導電型のコンタクト層10を設け、このコンタクト層10の両側の部分に、少なくとも一部が電気的にほぼ絶縁性の窒化物系III-V族化合物半導体からなる電流狭窄層11、12を設けて電流狭窄構造を形成する。このような電流狭窄構造を形成するには、クラッド層8上にエッチングストップ層9および電流狭窄層11、12を成長させた後、エッチングストップ層9を用いて電流狭窄層11、12を選択的にエッチングすることによりストライプ形状の開口を形成し、この開口の内部にコンタクト層10を選択的に成長させて埋め込む。
公开日期1999-06-22
申请日期1997-12-03
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/81283]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SONY CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
玉村 好司. 半導体発光装置およびその製造方法. JP1999168257A. 1999-06-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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