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半導体レーザ素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者角田 篤勇
发表日期2000-10-20
专利号JP2000294878A
著作权人SHARP CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子及びその製造方法
英文摘要【課題】 2つの発光領域の位置決めをセルフアラインで行って、少ない結晶成長回数により、1つのチップで2つの波長の光を発生する半導体レーザ素子を作製する。 【解決手段】 基板1上に、一対のクラッド層4、6で挟まれた活性層5上にリッジ8、9埋め込み構造を有する第1の半導体積層構造が設けられ、その上に、一対のクラッド層11、13で挟まれた活性層12を有する第2の半導体積層構造が設けられている。活性層12は、リッジの形状を反映し、屈折率の高い部分を有して成長されている。
公开日期2000-10-20
申请日期1999-04-06
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/81409]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SHARP CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
角田 篤勇. 半導体レーザ素子及びその製造方法. JP2000294878A. 2000-10-20.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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