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半導体装置の製造方法

文献类型:专利

作者江川 満; 藤井 卓也
发表日期1997-02-07
专利号JP1997036487A
著作权人FUJITSU LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体装置の製造方法
英文摘要【目的】 半導体装置の製造方法に関し、butt-joint法によるInAlGaAs系テーパ導波路レーザの製造方法を提供する。 【構成】 有機金属気相成長(MOVPE)法によって、例えば、n-InP基板1の上にn-InPバッファ層2、n-InAlAsクラッド層3、n-InAlGaAs光ガイド層4、InAlGaAs/InAlGaAs多重量子井戸構造5、p-InAlGaAs光ガイド層6、p-InAlAsクラッド層7を成長してレーザ構造を形成した後、レーザ領域とする部分にマスクM1 を形成してエッチングすることによりマスクM1 がないレーザ領域以外の部分のレーザ構造を除去し、その除去した領域のn-InPバッファ層2の上にマスクM1 ,M2 を形成し、n-InPバッファ層2の上にn-InPクラッド層8、InGaAsP光ガイド層9、p-InPクラッド層10を選択成長してテーパ状光導波路を形成する。
公开日期1997-02-07
申请日期1995-07-21
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/81461]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJITSU LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
江川 満,藤井 卓也. 半導体装置の製造方法. JP1997036487A. 1997-02-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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