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窒化ガリウム系化合物半導体レーザ

文献类型:专利

作者小池 正好; 手銭 雄太; 永井 誠二; 湧口 光雄
发表日期1999-07-02
专利号JP1999177185A
著作权人TOYODA GOSEI CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名窒化ガリウム系化合物半導体レーザ
英文摘要【課題】半導体レーザのキャビティの反りを小さくして端面の平行度を向上させ、発振しきい電流密度を低下させ発光効率を向上させること。 【解決手段】サファイア基板1のa面上に窒化ガリウム系化合物半導体から成る各層2〜9を形成した半導体レーザ100において、キャビティRの長さ方向をサファイア基板のc軸に垂直な方向(m軸)とした。サファイア基板1のa面上に窒化ガリウム系化合物半導体を結晶成長させると、その半導体はその半導体のc軸に沿って成長する。この時、基板は反るが、基板面の反りはm軸方向が最も小さい。よって、a面上において、このm軸方向に光軸が向くようにキャビティRを形成すれば、両端面Sの平行度が高くなる。
公开日期1999-07-02
申请日期1997-12-11
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/81638]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOYODA GOSEI CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
小池 正好,手銭 雄太,永井 誠二,等. 窒化ガリウム系化合物半導体レーザ. JP1999177185A. 1999-07-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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