Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging
文献类型：期刊论文
| 作者 | Tu YY(涂远莹) ; Wang XC(王向朝) ; Li SK(李思坤) ; Cao YT(曹宇婷) |
| 刊名 | optics letters
 |
| 出版日期 | 2012-06-01 |
| 卷号 | 37期号:11页码:2061-2063 |
| 关键词 | 光刻 偏振像差 |
| 公开日期 | 2013-09-09 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/11060]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Tu YY,Wang XC,Li SK,et al. Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging[J]. optics letters,2012,37(11):2061-2063. |
| APA | Tu YY,Wang XC,Li SK,&Cao YT.(2012).Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging.optics letters,37(11),2061-2063. |
| MLA | Tu YY,et al."Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging".optics letters 37.11(2012):2061-2063. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。