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半导体激光元件

文献类型:专利

作者井上大二朗; 广山良治; 竹内邦生; 野村康彦; 畑雅幸
发表日期2004-12-29
专利号CN1182637C
著作权人三洋电机株式会社
国家中国
文献子类授权发明
其他题名半导体激光元件
英文摘要在具有突出部分的p-涂层上依次形成在突出部分上具有带状开口的载流子积蓄防止层、低载流子浓度层及n-电流阻挡层。低载流子浓度层具有比n-电流阻挡层更低的载流子浓度。载流子积蓄防止层的禁带宽度设定为p-涂层的禁带宽度与低载流子浓度层的禁带宽度之间的值。或,在n-载流子积蓄防止层上形成低载流子浓度第1电流阻挡层及反向导电型第2电流阻挡层,在反向导电型第2电流阻挡层以及p-接触层上形成p-接触层。
公开日期2004-12-29
申请日期2000-12-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/82287]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋电机株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
井上大二朗,广山良治,竹内邦生,等. 半导体激光元件. CN1182637C. 2004-12-29.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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