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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者中山 久志; 鬼頭 雅弘; 石野 正人; 松井 康
发表日期2000-09-14
专利号JP2000252590A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【課題】 本発明は、電子のオーバーフローを抑制し、かつ結晶性の良好な活性層を有する半導体レーザ装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 n型InP基板101と、前記n型InP基板1上に形成されたp型InPクラッド層106およびn型InPクラッド層102と、前記p型InPクラッド層106と前記n型InPクラッド層102との間に形成され、InGaAsP障壁層109とInGaAsP井戸層108とを交互にそれぞれ2層以上形成してなる活性層104とを備え、隣り合う前記InGaAs障壁層109と前記InGaAs井戸層108との伝導帯のバンドオフセット量の絶対値を前記p型InPクラッド層106に近づくほど大きくする。
公开日期2000-09-14
申请日期1999-03-02
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83027]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
中山 久志,鬼頭 雅弘,石野 正人,等. 半導体レーザ装置. JP2000252590A. 2000-09-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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