Selective etching characteristics of the AgInSbTe phase change film in laser thermal lithography
文献类型：期刊论文
| 作者 | Li H(李豪) ; Geng YY(耿永友) ; Wu YQ(吴谊群) |
| 刊名 | applied physics a: materials science & processing
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| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 107期号:1页码:221-225 |
| 关键词 | thermal lithography AgInSbTe |
| 通讯作者 | 吴谊群 |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-09-09 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/11040]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_高密度光存储技术实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Li H,Geng YY,Wu YQ. Selective etching characteristics of the AgInSbTe phase change film in laser thermal lithography[J]. applied physics a: materials science & processing,2012,107(1):221-225. |
| APA | Li H,Geng YY,&Wu YQ.(2012).Selective etching characteristics of the AgInSbTe phase change film in laser thermal lithography.applied physics a: materials science & processing,107(1),221-225. |
| MLA | Li H,et al."Selective etching characteristics of the AgInSbTe phase change film in laser thermal lithography".applied physics a: materials science & processing 107.1(2012):221-225. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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