中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
基于水平集方法的离子束刻蚀碲镉汞的轮廓演变模拟

文献类型:期刊论文

作者刘向阳; 徐国庆; 贾嘉; 孙艳; 李向阳
刊名红外与毫米波学报
出版日期2019
卷号38期号:3页码:331-337
关键词碲镉汞 离子束 刻蚀轮廓 水平集方法 刻蚀速度减缓 深宽比
DOI10.11972/j.issn.1001-9014.2019.03.013
英文摘要用水平集方法建立了碲镉汞的离子束刻蚀轮廓的数值模型,模型的输入参数包括掩膜厚度、掩膜侧壁倾角、掩膜沟槽宽度、离子束散角、刻蚀速度等参数.对碲镉汞的刻蚀轮廓和刻蚀速度减缓现象进行了模拟和实验验证,结果表明,在沟槽宽度为4~10 μm的范围内,计算得到的刻蚀深度和SEM测量结果相差6~20%.对掩膜的轮廓演变进行了模拟,给出了一个优化设计掩膜厚度来提高深宽比的实例.
WOS记录号WOS:473510300013
源URL[http://202.127.2.71:8080/handle/181331/12370]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘向阳,徐国庆,贾嘉,等. 基于水平集方法的离子束刻蚀碲镉汞的轮廓演变模拟[J]. 红外与毫米波学报,2019,38(3):331-337.
APA 刘向阳,徐国庆,贾嘉,孙艳,&李向阳.(2019).基于水平集方法的离子束刻蚀碲镉汞的轮廓演变模拟.红外与毫米波学报,38(3),331-337.
MLA 刘向阳,et al."基于水平集方法的离子束刻蚀碲镉汞的轮廓演变模拟".红外与毫米波学报 38.3(2019):331-337.

入库方式: OAI收割

来源:上海技术物理研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。