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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者松本 晃広; 大林 健
发表日期2002-06-28
专利号JP3322928B2
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【目的】 レーザ発光の閾値電流を低減して、消費電流を低減できる半導体レーザ装置を提供する。 【構成】 この半導体レーザ装置は、活性層102がp型クラッド層103,104とn型クラッド層101とで挟まれている。p型クラッド層103は、活性層102に近接している高キャリア濃度部である。p型クラッド層104は、p型クラッド層103よりも活性層102から離隔していると共に、p型クラッド層103よりもキャリア濃度が低い低キャリア濃度部である。p型クラッド層103が活性層102からの電子の漏れ出しを防止し、p型クラッド層104では電流の広がりが抑えられる。
公开日期2002-09-09
申请日期1993-02-05
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83259]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
松本 晃広,大林 健. 半導体レーザ装置. JP3322928B2. 2002-06-28.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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