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半導体レーザ装置およびその製造方法

文献类型:专利

作者細井 浩行; 嶋本 敏孝; 牧田 幸治
发表日期2008-08-14
专利号JP2008186859A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置およびその製造方法
英文摘要【課題】 リッジ部を形成する材料と電流ブロック層を形成する材料とが異なっている場合に、その材料の相違に基づく応力の発生を低減させて発光領域に与えられる影響を小さくし、信頼性の高い半導体レーザ装置とその製造方法を提供すること。 【解決手段】 基板上に、第1導電型クラッド層と、活性層と、第2導電型クラッド層と、前記第2導電型クラッド層の一部がストライプ状に加工されたリッジ部と、前記リッジ部上の一部の領域を除いて形成された電流ブロック層とを備え、前記リッジ部の側方に、前記第2導電型クラッド層の一部が加工されて形成された、前記リッジ部より高さの低い応力緩和部を有する。 【選択図】図1
公开日期2008-08-14
申请日期2007-01-26
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83263]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
細井 浩行,嶋本 敏孝,牧田 幸治. 半導体レーザ装置およびその製造方法. JP2008186859A. 2008-08-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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