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半導体レーザ

文献类型:专利

作者尺田 幸男
发表日期2003-05-23
专利号JP3432910B2
著作权人ローム株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザ
英文摘要【目的】 電流阻止層で光を吸収せず、出力が大きく発光効率の高い半導体レーザを提供する。 【構成】 ヒ化ガリウム系化合物半導体からなる活性層3がヒ化ガリウム系化合物半導体からなる上部および下部クラッド層4、6で挟持され、該上部もしくは下部クラッド層の少なくとも一方の層中に電流路となるストライプ溝が設けられた電流阻止層5を有する半導体レーザであって、前記電流阻止層がチッ化ガリウム系化合物半導体からなる。
公开日期2003-08-04
申请日期1994-09-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83493]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ローム株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
尺田 幸男. 半導体レーザ. JP3432910B2. 2003-05-23.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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