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半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者後藤 壮謙; 林 伸彦
发表日期2003-08-08
专利号JP3459607B2
著作权人三洋電機株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【課題】 動作電圧の低減および出射レーザ光のアスペクト比の改善が可能な半導体レーザ素子およびその製造方法を提供することである。 【解決手段】 サファイア基板2上にn-コンタクト層3、n-クラッド層4、MQW活性層5およびp-第1クラッド層6aが順に形成される。p-第1クラッド層6a上にはストライプ状開口部8を有するn-電流ブロック層7が形成される。ストライプ状開口部8の幅は、n-電流ブロック層7の下層から上層へかけてW2からW1へと段階的に広くなる。n-電流ブロック層7上およびストライプ状開口部8内のp-第1クラッド層6a上にはp-第2クラッド層6bが形成される。p-第2クラッド層6bは幅W2の下端を有する下層および幅W2よりも大きな幅W1を有する上層により構成される。
公开日期2003-10-20
申请日期2000-03-08
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83733]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
後藤 壮謙,林 伸彦. 半導体レーザ素子およびその製造方法. JP3459607B2. 2003-08-08.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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