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半導体発光素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者横川 俊哉; 吉井 重雄; 佐々井 洋一
发表日期1996-10-01
专利号JP1996255955A
著作权人松下電器産業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光素子及びその製造方法
英文摘要【課題】 低しきい値電流密度で発振する半導体レーザを提供する。 【解決手段】 n型GaAs基板11上に、n型ZnSeエピタキシャル層12、n型ZnMgSSeクラッド層13、n型ZnSSe光導波層14、ZnCdSe活性層15、p型ZnSSe光導波層16、p型ZnMgSSeクラッド層17、p型ZnTeコンタクト層18、多結晶ZnO埋込層19を形成する。さらにp型AuPd電極110とn型In電極111とを形成する。ここでは、多結晶ZnO埋込層19を電流狭窄層と光閉込め層に用いていることにより、熱放散が良いことから低しきい値電流密度と長寿命が実現できる。また効果的な光閉込めにより単一横モードレーザ発振が得られる。
公开日期1996-10-01
申请日期1996-01-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83812]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電器産業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
横川 俊哉,吉井 重雄,佐々井 洋一. 半導体発光素子及びその製造方法. JP1996255955A. 1996-10-01.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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