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半導体レーザ装置およびその製造方法

文献类型:专利

作者田辺 哲弘; 芦田 雅由
发表日期1997-12-02
专利号JP1997312435A
著作权人ROHM CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置およびその製造方法
英文摘要【課題】 AlGaAs系材料を用いた半導体レーザ装置において、従来GaInPを用いていることにより生じていた問題点を解決し、信頼性に優れかつ製造効率の高い半導体レーザ装置およびその製造方法を提供することにある。 【解決手段】 本発明の半導体レーザ装置は、基板101上に下クラッド層102、活性層103、第1上クラッド層104a、電流ブロック層106、第2上クラッド層104b、コンタクト層108を積層しているが、第1上クラッド層と電流ブロック層との間に、InGaAlP層105を積層することで、従来エッチングストッパとして用いられていたGaInP層に比べ、良質の成膜が可能となるとともに製造効率が向上した。
公开日期1997-12-02
申请日期1996-05-21
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83896]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ROHM CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
田辺 哲弘,芦田 雅由. 半導体レーザ装置およびその製造方法. JP1997312435A. 1997-12-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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